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半导体前道设备

实验型光刻机

产地:台湾
品牌:WESTRO


产品特点: 性价比高、精度高、体积小、可适用于6寸以下光罩。(8寸可依需求订制)


仪器规格 :

1.   高精准度。

2.   次微米级分辨率与套准精度。

3.   手动曝光系统。

4.   自动侦测倾斜补偿系统。

5.   半自动调整三维移动与转动的工件台系统。

6.   先进的UV光源系统。

7.   高分辨力的CCD图像传感器。

8.   桌上型、体积小、内建计算机。

9.   可客制化硬件与软件,以符合业界需求。

10. 弹性适用于各种基底与形状。 (如: 硅片、玻璃...等等)