产品服务
PRODUCT

产品&服务

Products & Services

半导体前道设备

ALD 原子层沉积

产地:英国
品牌:牛津


应用于纳米结构和器件工程,通过提供遥感等离子体原子层沉积(ALD)工艺和热ALD工艺,在单一系统内实现了:

1. 选择材料和源的灵活性,
2. 低温工艺,所以可以使用等离子体ALD
3. 利用遥感等离子实现低损伤
4. 通过程序控制的软件界面实现可控的,可重复的工艺


ALD应用举例:
1. 纳电子
2. 高k栅极氧化物
3. 存储电容器绝缘层
4. 铜连线间的高纵横比扩散阻挡层
5. OLED和聚合物中的无孔钝化层
6. 钝化晶体硅太阳能电池
7. 微流体和MEMS中的高保形涂料
8. 纳米孔结构涂层
9. 生物微机电系统
10.燃料电池


如需了解更详细的设备信息,敬请与我们联系。