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半导体前道设备

氧化扩散炉

产地:英国
品牌:Thermco


产品线包含卧式扩散炉、氧化炉、退火炉、合金化炉及LPCVD等,在许多的半导体制造厂里都有安装应用。
1.  根据基片尺寸以及产量要求的不同,HTR系列可分为大批量生产型5100/5200系列(6英寸)、科研型2400系列(4英寸)/2600系列(6英寸)/2800系列(8英寸)等;
2.  可处理4~10英寸的基片,每管处理能力分别可达25片、50片、100片及更多;
3.  根据配置不同的工艺气源及温度控制范围,各型号的产品均可用于LPCVD、扩散及氧化等热处理反应工艺。
4.  扩散炉由的Thermco TMX系统控制。TMXpc控制系统融合了前代TMX的配方编辑和控制模式与可靠的硬件和图形化操作功能。该设备有一台主用户操作电脑MUX用来编辑配方和查看状态,且每条管道都有独立的控制电脑。


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