产品服务
PRODUCT

产品&服务

Products & Services

半导体前道设备

全自动曝光机

产地:韩国
品牌:Midas


该光刻机具备较高的对准精度,CCD显示屏对准更为方便,液晶触摸屏操作,采用欧司朗紫外灯,寿命长。

1.   基片尺寸:4、6、8、12、25英寸,其他尺寸可定制
2.   光束均匀性:<±3%
3.   曝光时间可调范围:0.1 to 999.9秒
4.   对准精度:0.6-1微米   分辨率:1微米
5.   光束输出强度:15-25mW/cm2
6.   光源强度可控;紫外曝光,深紫外曝光(Option)
7.   曝光模式:真空接触模式(接触力可调),Proximity接近模式, 投影模式
8.   可双面对准,可双面光刻,具有IR和CCD模式
9.   特殊的基底卡盘可定做
10. 具有楔形补偿功能


如需了解更详细的设备信息,敬请与我们联系。