产地：英国
品牌：牛津
应用于纳米结构和器件工程，通过提供遥感等离子体原子层沉积（ALD）工艺和热ALD工艺，在单一系统内实现了：
1. 选择材料和源的灵活性，
2. 低温工艺，所以可以使用等离子体ALD
3. 利用遥感等离子实现低损伤
4. 通过程序控制的软件界面实现可控的，可重复的工艺
ALD应用举例：
1. 纳电子
2. 高k栅极氧化物
3. 存储电容器绝缘层
4. 铜连线间的高纵横比扩散阻挡层
5. OLED和聚合物中的无孔钝化层
6. 钝化晶体硅太阳能电池
7. 微流体和MEMS中的高保形涂料
8. 纳米孔结构涂层
9. 生物微机电系统
10.燃料电池
如需了解更详细的设备信息，敬请与我们联系。
京公网安备11010802042554号
