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产地：英国 品牌：牛津
该设备有较高的灵活性进行刻蚀和/或沉积。系统规格可根据应用进行调节，从而实现更快的和可重复的工艺结果。
离子束可实现多种模式功能： 1. 离子束刻蚀（IBE） 2. 反应离子束刻蚀（RIBE） 3. 化学辅助离子束刻蚀（ CAIBE ） 4. 离子束溅射沉积（ IBSD ） 5. 离子辅助溅射沉积（ IASD ）
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京公网安备11010802042554号
