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半导体前道设备

无掩膜光刻机

产地:美国
品牌:IMP


美国IMP公司凭借多年的光刻设备生产经验和多项无掩模曝光技术,已经拥有了大量的用户!


1. 微米和亚微米光刻, 0.6微米光刻精度
2. 紫外光直写曝光,无需掩模,大幅节约了掩模加工费用
3. 灵活性高,可直接通过电脑设计光刻图形,并可根据设计要求随意调整
4. 可升级开放性系统设计
5. 按照客户要求可从低端到高端自由配置
6. 使用维护简单, 设备耗材价格低
7. 应用范围广,目前广泛应用于半导体、生物芯片、微机电系统、传感器、微化学、光学等领域
8. 可配置汞灯光源和LED光源,多种波长曝光(385nm, 405nm)


如需了解更详细的设备信息,敬请与我们联系。